据相关报道，ASML（阿斯麦）公司CEO在2023年Q3业绩电话会议上表示，该公司已基本完成了中国客户预先支付的DUV光刻机订单交付。然而，受出口管制新规影响，预计明年DUV收入将减少，总销售收入可能会下降。
这位CEO还指出，“由于可再生能源、电动汽车、工业物联网、电信基础设施等领域的大规模投资驱动，中国对次关键和成熟制程的需求将会非常庞大。”
早在今年9月初，ASML就获得了荷兰官方的批准，并计划在年底前向中国客户出口其部分先进工具。根据ASML的说法，在2023年的剩余时间里，该公司将继续供应NXT:2000i和更先进的DUV型号产品，这些产品从9月1日起就已经受到限制。
至于2024年是否可以继续出口，则目前尚未确定。根据ASML官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
值得注意的是，ASML官网上有关TNXT:1980Di的一台光刻机介绍中提到了分辨率大于等于38nm（约为7nm左右），但这只是指一次曝光分辨率，并非实际应用中的极限分辨率。实际上，光刻机可以进行多次曝光来提高分辨率。